CVD SiC prevlečena ladjica za oksidacijo in difuzijo

V podjetju Semixlab izdelujemo SiC prevlečene rezine za zahtevna polprevodniška okolja – kjer so doslednost, čistoča in dolga življenjska doba resnično pomembne.

Začnemo z visoko čisto silicijev karbidno keramiko (SiC keramika, čistost nad 99.9 %) in nanesemo gosto CVD silicijev karbidno (CVD SiC) prevleko s čistostjo 6N. Na ta način naši čolni ohranijo strukturno stabilnost tudi po večkratnem segrevanju in ohlajanju ter pomagajo zmanjšati tveganje kontaminacije med proizvodnjo.

Kaj sploh je čoln s prevleko iz SiC-ja?

Čolniček za rezine je v bistvu nosilec, ki med toplotno obdelavo drži več rezin. Omogoča pravilno razporeditev in oporo rezin, hkrati pa zagotavlja enakomeren prenos toplote po njih.

V primerjavi s konvencionalnimi nosilci grafitnih rezin napredni keramični SiC-ladjice iz rezin ponujajo boljšo toplotno stabilnost, nadzor čistosti in odpornost proti oksidaciji v okoljih polprevodniških peči. Vendar pa lahko v agresivnih polprevodniških pogojih – sčasoma – naletite na stvari, kot so površinska oksidacija, luščenje delcev ali kemična erozija.

Zato se ljudje pogosto odločijo za SiC prevleko.

Plast silicijevega karbida tvori gosto zaščitno prevleko na površini grafita. Izboljša:

-Odpornost proti oksidaciji

-Kemična odpornost proti koroziji

-Površinska trdota

-Nadzor delcev

-Kako dolgo del traja

Zato se CVD SiC prevlečene rezine za rezine pogosto uporabljajo v oksidacijskih pečeh, difuzijskih pečeh in drugih visoko čistih termičnih procesnih sistemih.

Ključne značilnosti Semixlab SiC prevlečenih oblati

Visoko čista površina

Nečistoče lahko neposredno vplivajo na izkoristek rezin. Naš postopek nanašanja premaza optimiziramo za čistost polprevodniške kakovosti, da lahko pomagamo zmanjšati kovinsko kontaminacijo med proizvodnjo.

Velika toplotna stabilnost

Med oksidacijo in difuzijsko obdelavo morajo ladjice v obliki rezin ohranjati dimenzijsko stabilnost in ultra čiste površine pri ponavljajočih se ciklih visoke temperature. Naše ladjice v obliki rezin so zasnovane tako, da ohranijo svoje dimenzije skozi ponavljajoče se cikle segrevanja in ohlajanja.

Nizka tvorba delcev

Ker je površina zgoščena, je izpostavljenega manj grafita – kar pomeni, da se odstrani manj delcev in dobite čistejše procesno okolje.

Enakomerna pokritost premaza

Kompleksne strukture utorov in vogali zahtevajo enakomerno debelino premaza. Naš interni postopek nanašanja premaza nam pomaga doseči boljšo enakomernost površine po celotnem delu.

Zmogljivost strojne obdelave po meri

Različne platforme opreme zahtevajo različne dimenzije. Podpiramo prilagojene zasnove na podlagi vaših risb ali zahtev procesa.

Proizvodnja in nadzor kakovosti

Vsaka rezinasta ladjica je podvržena precizni keramični obdelavi, pripravi površine in nanašanju visoko čistega CVD SiC prevleke.

V podjetju Semixlab vsak del gre skozi:

-Pregled surovin

-Natančna CNC obdelava

-Površinsko čiščenje

-CVD SiC prevleka

-Dimenzionalno preverjanje

-Končni videz in pregled kakovosti

To počnemo zato, da dobite zanesljivo delovanje, še preden del sploh pride v vaše orodje.

Zakaj izbrati Semixlab?

Smo specializirani proizvajalec polprevodniških grafitnih in premaznih komponent. Strankam pomagamo pri:

-Lastna tehnologija premazovanja

-Prilagodljiva proizvodnja po meri

-Hitra inženirska komunikacija

-Poznavanje polprevodniških procesov

-Stabilna mednarodna dobavna zmogljivost

Ne glede na to, ali razvijate opremo, upravljate pilotno linijo ali izvajate množično proizvodnjo, vam lahko naša inženirska ekipa pomaga pri vaših potrebah.

Če iščete zanesljivega dobavitelja ladij z oblati, prevlečenih s SiC, vam lahko Semixlab ponudi rešitve po meri, ki temeljijo na vaših risbah ali procesnih pogojih.

Dejanske specifikacije se lahko prilagodijo glede na pogoje uporabe.

Naše SiC prevlečene oblate se pogosto uporabljajo v:

● Polprevodniške oksidacijske peči

● Polprevodniške difuzijske peči

● Sistemi za termično žarjenje

● Oprema za toplotno obdelavo polprevodnikov

● Napredne aplikacije za raziskave in razvoj polprevodnikov

● Postopki žarjenja

● Raziskave polprevodniških materialov pri visokih temperaturah