CVD prevleka iz silicijevega karbida (SiC).

CVD SiC prevleka je v osnovi plast silicijevega karbida, nanesena na grafit, in se pogosto uporablja v orodjih za epitaksijo, kjer sta pomembni tako temperatura kot čistoča. V resničnih proizvodnih linijah jo boste pogosto videli v sistemih podjetij AIXTRON, ASM/LPE, Veeco in nekaterih platform, povezanih z AMAT. Uporabna ni le zaradi temperaturne odpornosti, temveč tudi zaradi splošne stabilnosti med dolgimi serijami. V tipičnih epitaksijskih pogojih – vodik, amonijak ali celo klorirani plini – prevleka ostane relativno stabilna in ščiti grafit pod njo. To pomaga ohranjati bolj konsistentno toplotno polje in zmanjšuje možnost pojava delcev med rastjo.

Prevleka se večinoma nanaša na dele, kot so susceptorji, nosilci rezin, grafitni obroči ali komponente v obliki polmeseca. Vsi ti so neposredno vključeni v segrevanje ali pozicioniranje rezin, zato lahko vsaka majhna nestabilnost vpliva na izkoristek. Zaradi tega se prevlečeni deli pogosto obravnavajo kot potrošni material, ki mora biti zanesljiv tudi v več ciklih, zlasti pri proizvodnji od 4 do 12 palcev (10 do 30 cm).